Las nanoestructuras dieléctricas de alto índice que soportan la resonancia eléctrica y magnética han surgido como nuevos componentes básicos en el campo de los nanofotones para nuevas funciones.
Mediante la disposición periódica de estas nanoestructuras, la interferencia coherente entre las resonancias de Mie localizadas de nanoestructuras individuales y la luz difractada en el plano puede dar lugar a las denominadas resonancias de Mie superficiales (SLR).
Investigadores del Instituto de Tecnología Avanzada de Shenzhen (SIAT) de la Academia de Ciencias de China han investigado nanodiscos de silicio periódicos en presencia oblicua con polarización magnética transversal y han detectado resonancia de electrodo-dipolo fuera del plano (ED-SLR) por primera vez.
El estudio fue publicado en Optix Express El 7 de septiembre.
El equipo descubrió que el Mie ED-SLR fuera del plano se puede excitar con un dipolo eléctrico SLR (ED-SLR) en el plano, un dipolo-electrodo SLR (MD-SLR) y un cuadrupolo magnético SLR (MQ-SLR) en nanodiscos de silicio periódicos bajo ocurrencia oblicua. Descubrieron que una Mie ED-SLR fuera del avión puede tener factores de calidad cuatro veces mayores que los factores de calidad en vuelo en las mismas condiciones.
El equipo de LI notó que, a diferencia de una ED-SLR PLasmonic fuera del plano, que es un modo semi-radiante u oscuro, la Mie ED-SLR fuera del plano puede tratarse como un modo brillante y tiene una visión cercana distinta. Distribuciones ópticas de campo y relación de dispersión.
«Esto se debe a que el campo dipolar de la Mie ED-SLR es causado por corrientes de desplazamiento, y las ED-SLR plasmónicas son estimuladas por gases de electrones libres», dijo el Dr. LI Guangyuan, autor correspondiente del estudio.
Los investigadores también encontraron que la Mie ED-SLR fuera del plano podía identificar un estado de enlace de secuencia protegida en incidencia normal. Esto se debe a que la Mie ED-SLR fuera del plano no puede emitir en una situación normal. Para ángulos de incidencia pequeños, el factor de calidad puede ser de hasta 104.
«Este trabajo proporciona un nuevo enfoque para lograr agentes de calidad superior de Mie SLR en superficies dieléctricas», dijo el Dr. LI. «Además, la coexistencia de cámaras SLR multipolares abre nuevas vías para manipular las interacciones luz-materia».
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